現(xiàn)對(duì)下列物資征集相關(guān)資料，請(qǐng)有相關(guān)產(chǎn)品及信息且具有合法合格資質(zhì)的供應(yīng)商與我部聯(lián)系。
（通知：請(qǐng)供應(yīng)商務(wù)必先掃描下方二維碼填寫(xiě)報(bào)名信息并將紙質(zhì)版資料交至以下地址，未掃碼或未提交紙質(zhì)版資料、報(bào)名資料審核不通過(guò)或報(bào)名信息有誤視為報(bào)名不成功，且一家公司只能申報(bào)一個(gè)品牌，第一輪提交了報(bào)名資料的供應(yīng)商第二輪無(wú)需再次提交資料。）

項(xiàng)目1：沉積設(shè)備（低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（LPCVD）、雙向沉積設(shè)備、ALD原子層沉積機(jī)、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PECVD）、PECVD、多功能PVD薄膜制備系統(tǒng)）
項(xiàng)目2：鍵合機(jī)（襯底鍵合系統(tǒng)、倒裝焊鍵合機(jī)、臨時(shí)鍵合機(jī)T-bonder、陽(yáng)極鍵合機(jī)、深腔金帶鍵合機(jī)、深腔金絲鍵合機(jī)、深腔球鍵合機(jī)）
項(xiàng)目3：刻蝕機(jī)（高深寬比硅刻蝕機(jī)、深反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(ICP)、深反應(yīng)離子刻蝕(ICP)、離子束刻蝕機(jī)、反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE)）